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第一百六十五章:一场赌局即将开始(求订阅!求月票!)


  把大家的吃住生活都安排好了之后,第二天又是安排大家在深川市内到处走走看看。

  让大家对深川市的生活环境,有一个充分的了解,这才和大家谈公司和工作的问题,以及工作待遇和薪水的问题。

  基本上是他们在花旗国,能享受到的福利待遇,薪酬收入,星光科技公司都能够满足他们,甚至比那边的公司给的待遇,还要更高一些。

  大家搞科研技术,除了兴趣和爱好之外,更多的都是将这些,当成了一份工作。

  那里的工作环境更好,薪酬待遇更高,当然更愿意在那里工作了。

  除了极个别的人,因为其它的个人原因,不愿意留在华夏,留在深川市的星光科技公司效力之外,大多数人在谈好了条件之后,都是愿意留下来,为星光公司效力的。

  有了这些人才的加入,公司的发展建设,这些都不是什么问题。

  加上深川市也出台过,扶持高科技创新企业的发展和研发工作,星光公司在田志宏的亲自关心下,拿到了公司的光刻机研发专项经费。

  另外,深川市政,府还划出了一片土地,以低价供应给星光科技公司,建立芯片产业园区。

  这些都是以后的事情,现在这些人不可能等着芯片产业园区建成,所以星光公司暂时租下了一幢厂房,建立芯片生产线。

  另外找了个地方,让光刻机生产的科研专家们,研究生产光刻机技术。

  这其中有几位,曾经在河兰阿斯慢公司工作过的海归留学生,引起了欧阳德和的注意。

  阿斯慢公司,可是日后高端光刻机生产制造公司,最顶尖的存在,没有之一。

  不仅打破了花旗国和岛国的光刻机技术企业的围追堵截,并且狠狠的将两国的光刻机生产企业,踩在了脚底下不断的磨擦,占领了全球的中高端光刻机市场。

  说起来,阿斯慢公司能够咸鱼翻身,不得不提到一个人,而且还是一位华人,他的名字叫宁本坚。

  在光刻机界流传着一句顺口溜,尼糠起高楼,阿斯慢宴宾客,花旗国楼塌了。

  光刻机,其实可以简单理解为“超超超超…超高”精度的照相机,把设计好的电路投影在硅片上。

  一九四七年,贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展。

  一九五九年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。

  一九六零年代,仙童提出CMOS  IC制造工艺,第一台IC计算机IBM360,并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线,花旗国GCA公司开发出光学图形发生器,和分布重复精缩机。

  一九七零年代,GCA开发出第一台分布重复投影曝光机,集成电路图形线宽从1.5μm缩小到0.5μm节点。

  一九八零年代,美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机,集成电路图形线宽从0.5μm缩小到0.35μm节点。

  一九九零年代,n一九九五年,Cano着手300mm晶圆曝光机,推出EX3L和5L步进机,ASML推出FPA2500,193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。

  光刻技术与我们的生活息息相关,我们用的手机,电脑等各种各样的电子产品,里面的芯片制作离不开光刻技术。

  如今的世界是一个信息社会,各种各样的信息流在世界流动。而光刻技术是保证制造承载信息的载体,在社会上拥有不可替代的作用。

  二零零零年以来,在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时,NGL正在研究,包括极紫外线光刻技术,电子束光刻技术,X射线光刻技术,纳米压印技术等。



  与此同时,河兰光刻机巨头阿斯慢,占据了63%的市场份额,产品集中在中高端的极紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。

  然而在二零零四年前,尼糠是当之无愧的带头大哥,不仅让阿斯慢稳坐屌丝之位,甚至让花旗国这个光刻机技术鼻祖,逐步退出了半导体用光刻机的市场。

  彼时傲娇的尼糠,一直将光刻机作为自己的核心产品,也是让岛国企业引以为傲的“民族之光”,甚至当年能到尼糠从事光刻机的研发,一度成为众多岛国大好青年的愿景。

  再看阿斯慢的基础并不好。从一九八四年诞生后的二十年,阿斯慢就一直是一个谜一样的存在,没有什么人会觉得。阿斯慢能够有什么未来,甚至包括他们自己。

  早期的阿斯慢,生存无望只能四处认干爹,最终只有飞利甫动了恻隐之心,在总部大厦旁边垃圾桶旁的空地上,给阿斯慢弄了几个简易厂房,房地产工地上的那种。

  最骚的是,飞利浦也没打算给什么钱,阿斯慢除了要饭没干过,基本上上门推销、蹲点、抢单。

  反正你能想象到的销售手段,阿斯慢全部都用过,能活二十年,全靠日积月累出来的“销售手艺”。

  魔幻的是,这点“手艺”居然成为了日后阿斯慢登顶的关键。

  苦苦支撑了二十年,阿斯慢终于等待了他们第一个贵人,——台急电鬼才宁本坚,一个可以比肩章忠谋的人物。

  如果说章忠谋缔造了台急电的前二十年,宁本坚就为台急电的后二十年,挣下了巨大的家当。

  宁本坚一九四二年出生于越南,华夏宝岛人,祖籍岭南潮汕。

  宁本坚一九七零年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士学位,二零零八年当选美国国家工程学院院士。在加入台积电之前,林本坚在IBM从事成像技术的研发长达二十二年,是当时世界无二的顶级微影专家。

  二零零零年,林本坚在当时台急电研发长蒋上义的邀请下,加入了台急电,开启了真正“彪悍的人生”。

  在IBM最后几年,宁本坚其实已经看到了傲慢的IBM,在微影领域的大厦将倾。他希望IBM能够给予他,当时微影部门所研发的X光光刻技术十分之一的经费,用来“做点东西”,然而IBM因为其华人的身份,并不打算买账。

  后来宁本坚回忆说:“我判断到65纳米(干式光刻)阶段时,让我再往前看三代的话,我就已经看不到了。”

  于是在众多人陷入X光光刻技术无法自拔的时候,宁本坚义无反顾地投入了,浸润式光刻技术的研究中。

  终于在二零零二年,已经加入台急电的他,研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术。

  也就是在二零零二年,冥冥之中宣告了过往干式光刻机的死刑。

  浸润式光刻技术让摩尔定律继续延伸,后来台急电也因此领先竞争对手超过5年。

  然而任何一项颠覆式新技术的出现,总会受到来自于传统势力巨大的阻力。

  宁本坚的浸润式光刻,几乎被尼糖、加能、IBM等所有巨头封杀,尼糖甚至向台急电施压,要求雪藏宁本坚。

  巨头的陨落,总是如出一辙。当年柯达最早生产出来了数码照相机,但是柯达却因为恐惧数码相机威胁到自己的胶片业务,做出决定——一定要藏好,不能让别人知道。

  尼糖的智商,在巨大的现有经济利益前消耗殆尽。

  一场赌局即将开始。

  


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